Coating ထုတ်လုပ်မှုလိုင်းများသည် အကျိုးရှိစွာ အစုလိုက်အပြုံလိုက် ထုတ်လုပ်မှုအတွက် ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာ သို့မဟုတ် ဓာတုဗေဒနည်းလမ်းများကို အသုံးပြု၍ အလွှာအပေါ်ယံ ကုသမှုအတွက် အဓိကကိရိယာများဖြစ်သည်။ ၎င်းတို့ကို အီလက်ထရွန်းနစ်၊ မော်တော်ယာဥ်၊ optics နှင့် စွမ်းအင်နယ်ပယ်သစ်များတွင် အသုံးပြုသည်။
1. Semiconductor Vertical Continuous Magnetron Sputtering Coating ထုတ်လုပ်မှုလိုင်း
အင်္ဂါရပ်များ- အပြည့်အဝအလိုအလျောက်လုပ်ဆောင်မှု၊ အဝေးထိန်းစောင့်ကြည့်ခြင်းကို ပံ့ပိုးပေးသည်။ ပိုမိုမြင့်မားသောထုတ်လုပ်မှုထိရောက်မှုအတွက်အလိုအလျောက် workpiece rack နို့တိုက်ကျွေး; ပစ်မှတ်ဖွဲ့စည်းပုံ ဒီဇိုင်းသည် အသုံးချမှုကို တိုးမြင့်စေပြီး တူညီသော sputtering ကို ပိုမိုဖြစ်ပေါ်စေသည်။ အောက်စထရိတ်အိုင်းယွန်းဖွဲ့စည်းမှုစနစ်သည် ဖလင်များ ကပ်ငြိမှုကို အားကောင်းစေသည်။
အပလီကေးရှင်းများ- photovoltaic cells၊ hydrogen fuel cell bipolar plates၊ ITO conductive glass၊ မော်တော်ကား displays နှင့် ceramic circuit boards များတွင် အသုံးပြုသည်။
2. Ceramic Capacitor Horizontal Continuous Magnetron Sputtering Coating ထုတ်လုပ်မှုလိုင်း
အင်္ဂါရပ်များ- စက်မှုကွန်ပြူတာမှ အပြည့်အဝ အလိုအလျောက် ထိန်းချုပ်မှု၊ အလိုအလျောက် workpiece ထိန်သိမ်းသယ်ယူပို့ဆောင်ရေး; အပေါက်-မှ-အပေါက်အတွက် အကောင်းမွန်ဆုံးပစ်မှတ်ဖွဲ့စည်းပုံ၊ မြင့်မားသော sputtering တူညီမှု; အောက်စထရိတ်အိုင်းယွန်းစနစ်သည် ရုပ်ရှင်အရည်အသွေးကို တိုးတက်စေသည်။
အပလီကေးရှင်းများ- မျက်နှာပြင်အထိုင် ကာပတ်စီတာများနှင့် ပါးလွှာသော-ဖလင်ခုခံမှုကိရိယာများတွင် အသုံးပြုသည်။
3. DPC Horizontal Continuous Magnetron Sputtering Coating ထုတ်လုပ်မှုလိုင်း
အင်္ဂါရပ်များ: အပြည့်အဝအလိုအလျောက်ထုတ်လုပ်မှု; တစ်နာရီလျှင် 288 အပိုင်းပိုင်း; နှစ်ထပ်-တစ်ဖက်သတ်အလွှာသည် တူညီမှုကိုသေချာစေသည်။ ပိုမိုကောင်းမွန်အောင်ပြုလုပ်ထားသော သံလိုက်စက်ကွင်းသည် အားဖြည့်အကျိုးသက်ရောက်မှုမှတစ်ဆင့် ပိုမိုကောင်းမွန်စေသည်။ conductivity နှင့် heat dissipation efficiency ကို မြှင့်တင်ပေးသည်။
အပလီကေးရှင်းများ- ကြွေထည်အလွှာများ၊ ကြွေထည်ကာပတ်ကာများနှင့် LED ကြွေထည်ကွင်းများကဲ့သို့သော တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းကိရိယာများတွင် အသုံးပြုသည်။
